激光预处理对HfO_2光学薄膜微观性能的影响

杨利红; 薛鹏成; 王涛; 苏俊宏

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激光预处理对HfO_2光学薄膜微观性能的影响

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研究了在1-on-1方式下激光预处理对HfO_2光学薄膜微观形貌、微观结构等性能的影响。实验采用薄膜阈值能量的10%、30%、50%和70%对HfO_2薄膜进行激光预处理,利用原子力显微镜(AFM)分别对预处理后薄膜表面10μm×10μm和3μm×3μm的区域进行测试,与预处理前相比,预处理后的薄膜所含杂质减少,薄膜表面锥状结构变得平滑;利用X射线衍射(XRD)和X射线光电子能谱(XPS)分别对预处理后薄膜的晶态结构和化学键以及价态进行测试,与预处理前相比,预处理后薄膜的晶态结构、化学键及价态均没有发生变化;利用XPS对预处理后薄膜所含的成分进行测试,与预处理前相比,预处理后薄膜中所含的Hf单质减少,HfO_2增多。实验结果表明,激光预处理具有抛光和氧化膜层的作用。

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来源
《光电子．激光》 |2018年第2期|187-196|共10页
作者
杨利红; 薛鹏成; 王涛; 苏俊宏;
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作者单位

西安工业大学光电工程学院;

陕西西安710021;

中国科学院西安光学精密机械研究所;

陕西西安710119;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜物理学;
关键词
薄膜; 抛光; 激光预处理; HfO2; 氧化;

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