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MoO_3修饰氧化石墨烯作为空穴注入层影响研究

         
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研究了MoO3修饰氧化石墨烯(GO)作为空穴注入层的影响。采用旋涂的方法制备了GO,再真空蒸镀修饰层MoO3,得到了空穴注入能力强和透过率高的复合薄膜。MoO3的厚分别采用0、3、5和8nm。通过优化MoO3的厚度发现,当MoO3的厚为5nm时,复合薄膜的透过率达到最大值,在550nm的光波长下透光率为88%,且此时采用复合薄膜作为空穴注入层制备的结构为ITO/GO/MoO3(5nm)/NPB(40nm)/Alq3(40nm)/LiF(1nm)/Al(100nm)的有机电致发光器件(OLED)性能最佳。通过对OLED进一步的优化,改变Alq3的厚度,分别取50、60和70nm,测量其电压、电流、亮度、色坐标和电致发光(EL)光谱等参数发现,当Alq3的厚为50nm时器件性能最佳。最终制备了结构为ITO/GO/MoO3(5nm)/NPB(50nm)/Alq3(50nm)/LiF(1nm)/Al(100nm)的OLED,在电压为10V时,最大电流效率达到5.87cd/A,与GO单独作为空穴注入层制备的器件相比,提高了50%。

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