LiYF_4:Tm^(3+)单晶的生长及其光学性能研究

汪沛渊; 夏海平; 彭江涛; 唐磊; 胡皓阳

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LiYF_4:Tm^(3+)单晶的生长及其光学性能研究

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采用坩埚下降法,制备了尺寸为Φ10mm×110mm的高质量Tm3+掺杂LiYF4(YLF:Tm3+)单晶体。测试了样品的电感耦合等离子(ICP)、X光衍射(XRD)吸收光谱以及790nm LD激发下的荧光光谱。应用Judd-Ofelt理论计算了Tm3+在YLF∶Tm3+单晶材料中的唯象强度参数Ωt、能级跃迁振子强度Pexp、自发辐射跃迁几率A、荧光分支比β和辐射寿命τrad等光谱参数,同时计算了1 800nm波段的吸收截面和受激发射截面分别为σabs=0.52×10-20 cm2和σem=0.67×10-20 cm2。在荧光光谱中观察到1 470nm与1 800nm的荧光发射,它们分别对应于Tm3+的3 H4→3 F4与3 F4→3 H6的能级跃迁。测定了1 800nm波段的荧光寿命,并计算得到3 F4→3 H6跃迁的量子效率为79.22%。

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来源
《光电子．激光》 |2013年第11期|2143-2149|共7页
作者
汪沛渊; 夏海平; 彭江涛; 唐磊; 胡皓阳;
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作者单位

宁波大学光电子功能材料重点实验室;

浙江宁波315211;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类晶体生长工艺;
关键词
Tm3+掺杂LiYF4(YLF; Tm^3+)单晶; Judd-Ofelt理论; 光谱; 性质;

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