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基于Marangoni效应的光学元件化学抛光工艺研究

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介绍了Marangoni界面效应及化学抛光反应机理,进行了数控抛光刻蚀实验研究,包括刻蚀稳定性实验、刻蚀量与刻蚀头速率的关系以及初步的面形修复加工。通过对实验结果进行分析,得到稳定可控刻蚀抛光的上限刻蚀速率和刻蚀效率与刻蚀头走速的函数关系。

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来源
《光电子．激光》 |2007年第10期|1158-1161|共4页
作者
项震; 聂传继; 侯晶;
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作者单位

浙江大学现代光学仪器国家重点实验室;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类应用化学;
关键词
Marangoni界面效应; 化学抛光刻蚀; 刻蚀函数;

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