硫化的激光器腔面上溅射ZnS钝化膜的研究

刘春玲; 王春武; 么艳平; 薄报学

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硫化的激光器腔面上溅射ZnS钝化膜的研究

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提出了一种新的激光器腔面钝化方法。先用(NH4)2S溶液硫化解理后的激光器腔面,然后使用磁控溅射方法对激光器的前腔面镀ZnS钝化膜、后腔面镀Si/SiO2高反射膜。ZnS钝化层光学厚度为λ/4,在中心波长为808nm处透过率可达95.5%。钝化前激光器的光学灾变损伤(COD)阈值为1.6W,钝化后为2.0W,提高了25%倍;未镀膜的激光器阈值电流为0.25A,经硫化再镀ZnS后阈值电流为0.20A,降低了20%。实验结果表明,经硫化后溅射ZnS对激光器腔面具有良好的钝化和增透效果。

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来源
《光电子．激光》 |2008年第1期|14-16|共3页
作者
刘春玲; 王春武; 么艳平; 薄报学;
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作者单位

长春理工大学高功率半导体激光器国家重点实验室;

吉林师范大学信息技术学院;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类半导体激光器;
关键词
半导体激光器; 光学灾变损伤(COD); 钝化; 硫化; ZnS;

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