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李仕武; 谢明运; 王景贵;
广州广合科技股份有限公司 广东 广州 510730;
图形电镀; 高厚径比; 孔内无铜;
机译:增强衬有LPCVD氮化硅或PE-ALD氮化钛的高纵横比硅通孔的可湿性,以进行无孔自底向上的铜电镀
机译:通过使用铜粒子在电解质中悬浮超临界二氧化碳,通过铜电镀法填充高纵横比的纳米级孔
机译:用于PTFE高频板铜电镀具有等离子处理的低分形尺寸改良钻孔孔墙
机译:优化用于3D集成的高纵横比硅通孔的无孔铜电镀的化学和工艺参数
机译:使用3.8%的锡0.07%的铜和免清洗的无VOC助焊剂的“厚” PCB的无铅波峰焊
机译:硫酸铜和硫酸对电镀HDI电路板盲孔填充的影响
机译:特殊问题/最近印刷布线板表面整理的趋势和未来评论。电镀通孔电镀孔的铜电镀。
机译:生命分析的发展与验证。交货单0012:在有孔和无孔的板中应用多个贯穿裂纹的损伤容限
机译:通过铜镀层对整个孔充电的印刷电路板,其制造方法,通过印刷电路板的孔对铜进行电镀的方法以及用于对各种铜板进行电镀的解决方案
机译:通过蚀刻溶液与种子层的无电镀铜的蚀刻速度相结合,比蚀刻铜的蚀刻速度高两倍以上的蚀刻溶液来制造印刷电路板的方法
机译:铜胶体催化剂溶液,用于无电镀铜,无电镀铜法和铜电镀基材的制造方法
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