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周珑; 孙玉静; 王聪;
国家知识产权局专利局专利审查协作北京中心,北京 10083;
北京航空航天大学凝聚态物理与材料物理研究中心,北京 100083;
磁控溅射; Mo薄膜; 徽观结构; 红外反射;
机译:射频磁控溅射制备的AZO / Ag / AZO三层膜的红外反射特性
机译:工艺参数对石墨基材DC磁控溅射钼膜微观结构特性的影响
机译:膜厚对超净溅射工艺制备的CoCrTa介质磁性能和微观结构的影响
机译:Si含量和溅射条件对R.F.溅射过渡金属氮化物膜微观结构和力学性能的影响
机译:硅基衬底的化学和表面微观结构及其对通过金属有机气相外延生长的III族氮化物膜微观结构演变的影响。
机译:白羽的微观结构预测了它们的可见光和近红外反射特性
机译:后栅等离子体和溅射工艺对金属栅CmOs集成电路辐射硬度的影响
机译:高纯度钇制备高纯度钇溅射靶金属栅薄膜的高纯度钇工艺,所述高纯度钇溅射靶金属栅薄膜沉积有所述的金属栅膜,所述器件具有半导体元件和器件
机译:利用近红外光谱仪的金属膜蚀刻工艺的回放方法控制方法及用于金属膜蚀刻工艺的方法
机译:高纯度钇,高纯度钇的制备工艺,高纯度钇溅射靶,沉积有高纯度钇靶的金属栅膜,以及装有金属栅膜的半导体元件和器件
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