不同氧压下脉冲激光沉积ZnO薄膜的研究

吕珂

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本文采用脉冲激光,在Si(001)衬底上生长ZnO薄膜,利用X射线衍射(XRD),原子力显微镜(AFH)等测试手段研究了不同氧气压力所生长的ZnO薄膜结构特征.研究表明:氧压不同制备的ZnO薄膜质量也不同.在不同的氧气压力下(0Pa～50 Pa)生长ZnO薄膜,XRD表明10Pa的氧压时有较强的(002)衍射峰和较小的半高宽.

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来源
《科技经济市场》 |2009年第5期|16-17|共2页
作者
吕珂;
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作者单位

华东交通大学基础学院物理系,江西,南昌,330013;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类化学;
关键词
ZnO薄膜; 脉冲激光沉积;

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