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美国开发一种新的砷化镓晶圆蚀刻法

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正美国伊利诺大学(University of Illinois)实验室开发出一种以金属为蚀刻催化剂的砷化镓晶圆蚀刻法,这种蚀刻方法,其制造速度较传统的湿式蚀刻制程来得快、而成本又较干式蚀刻来得低,一旦该制程获得推广,可望有效推进用以生产太阳能砷化镓产品的商业应用技术。

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来源
《半导体信息》 |2012年第1期|P.25-25|共1页
作者
郑冬冬;
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作者单位

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原文格式 PDF
正文语种 CHI
中图分类光刻、掩膜;
关键词
砷化镓蚀刻法制造速度伊利诺大学软光刻干式 Illinois 应用技术移动速率化合物半导体;

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