太阳选择性吸收涂层系列讲座(18)空心阴极气流溅射法沉积Al掺杂ZnO膜的电学与光学性质(下)

Hiroshi Takeda; Yasushi Sato; Yoshinori Iwabuchi; 刘光诒

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图2为采用GFS法沉积出AZO膜的XRD图,其中,Ar流量为3000 sccm,总气体压强为50 Pa,O2流量为10 ～ 50 sccm.沉积在未加热衬底玻璃上的AZO薄膜厚度在500 ～ 600nm范围内;当衬底加热到200℃,AZO薄膜的厚度在250 ～ 350 nm范围内.当O2流量大于20 sccm时,沉积出AZO膜的XRD图上清晰地出现了一个（001）取向的ZnO峰;

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来源
《太阳能》 |2014年第12期|9-11|共3页
作者
Hiroshi Takeda; Yasushi Sato; Yoshinori Iwabuchi; 刘光诒;
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作者单位

中科院;

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