脉冲磁控溅射制备氧化铝涂层的结构和性能控制(上)

Kelly P J; Arnell R D; 范崇治

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脉冲磁控溅射制备氧化铝涂层的结构和性能控制(上)

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氧化铝涂层提供了在腐蚀或氧化环境下金属零件的保护,虽然,直到最近完全致密、无缺陷的氧化物涂层的制备是非常困难的,氧化物涂层可在氧化环境中用一个金属靶的直流反应溅射的方法或用一个氧化物靶的射频溅射的方法制造.后面一种方法沉积率很低,不能商业应用.直流溅射高绝缘材料,例如氧化铝也是有问题的,在靶表面上建立绝缘层会导致电弧,电弧会影响沉积过程的稳定性,且会造成薄膜的结构和特性的负面影响.但一个新技术——脉冲磁控溅射大大增强制造这种材料的可行性,已经证明在10～200kHz范围磁控放电能阻止在靶面电弧的形成,工艺稳定,沉积率高.这个技术用来沉积从纯铝到理想配比的Al2O3,该涂层的性能用扫描和透射电子显微镜、X射线衍射仪、4点探针及纳米识别技术进行了研究,用涂层的组成来说明观察到的结构和特性的变化,并用新结构模型图表示.

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来源
《太阳能》 |2013年第19期|10-12|共3页
作者
Kelly P J; Arnell R D; 范崇治;
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作者单位

清华大学;

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正文语种 chi
中图分类
关键词
氧化铝; 涂层; 脉冲磁控溅射;

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