磁控共溅射低温制备多晶硅薄膜及其特性研究

著录项

• 来源
  《光谱学与光谱分析》 |2016年第3期|635-639|共5页
• 作者

  段良飞; 杨雯; 张力元; 李学铭; 陈小波; 杨培志;

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• 作者单位

  可再生能源材料先进技术与制备教育部重点实验室,云南昆明650092;

  云南师范大学太阳能研究所,云南昆明650092;

  可再生能源材料先进技术与制备教育部重点实验室,云南昆明650092;

  云南师范大学太阳能研究所,云南昆明650092;

  可再生能源材料先进技术与制备教育部重点实验室,云南昆明650092;

  云南师范大学太阳能研究所,云南昆明650092;

  可再生能源材料先进技术与制备教育部重点实验室,云南昆明650092;

  云南师范大学太阳能研究所,云南昆明650092;

  可再生能源材料先进技术与制备教育部重点实验室,云南昆明650092;

  云南师范大学太阳能研究所,云南昆明650092;

  可再生能源材料先进技术与制备教育部重点实验室,云南昆明650092;

  云南师范大学太阳能研究所,云南昆明650092;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 材料;
• 关键词

  共溅射; 铝诱导晶化; 低温退火; 多晶硅; 特性;