10-羟基喜树碱的合成及光谱表征

徐春艳; 黄明智; 薛传薪

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10-羟基喜树碱的合成及光谱表征

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喜树碱在30%过氧化氢氧化作用下生成喜树碱氮氧化物(OPT),然后在浓硫酸催化下,光化学重排反应得到10-羟基喜树碱.通过正交实验,确定氧化反应最佳条件为:反应时间4 h,反应温度75℃,30%双氧水用量48mL,溶剂乙酸用量350mL(相对于0.01 mol喜树碱);光化反应条件:溶剂为V(1,4-二氧六环):V(乙腈):V(H2O)=6:2:1,浓硫酸为催化剂,经过硅胶柱层析提纯,回收率为49.9%,纯度为99.5%,熔点272～273℃.通过红外光谱、质谱,一维、二维核磁共振波谱等手段对目标化合物的分子结构进行了表征,对化合物的红外光谱吸收峰及核磁谱线进行了归属分析,开发新的喜树碱衍生物提供了光谱依据.

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来源
《光谱学与光谱分析》 |2005年第11期|1772-1774|共3页
作者
徐春艳; 黄明智; 薛传薪;
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作者单位

北京化工大学材料科学与工程学院,北京,100029;

北京化工大学材料科学与工程学院,北京,100029;

北京化工大学材料科学与工程学院,北京,100029;

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正文语种 chi
中图分类有机化学理论、物理有机化学;
关键词
喜树碱; 10-羟基喜树碱; 红外光谱; 质谱; 核磁共振波谱;

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