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刘荣军; 周新贵; 张长瑞; 曹英斌;
国防科技大学 航天与材料工程学院国防科技重点实验室 湖南 长沙 410073;
CVD; 先进陶瓷;
机译:陶瓷材料的化学气相沉积(CVD)合成
机译:气溶胶辅助化学气相沉积(AACVD)制备NIO:Cu / Si异质结(aacvd)
机译:由气溶胶辅助化学气相沉积(AACVD)制备的铌掺杂氧化锌(NZO)薄膜中的纳米粒子和纳米线的一维(1-D)标记(AACVD)
机译:等离子体增强化学气相沉积(PECVD)制备的氢化无定形碳(A-C:H)薄膜的表面改性(PECVD)
机译:PECVD系统的设计,构造和运行以及通过低压化学气相沉积法开发的GeO(2)-SiO(2)薄膜玻璃电介质。
机译:CVD石墨烯上等离子增强化学气相沉积法制备的无转移反型石墨烯/硅异质结构
机译:化学气相沉积(CVD)制备的板状和管状整体碳化硅(siC)的断裂强度
机译:等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)制备低温低应力低k介电体的低温工艺
机译:等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)制备低应力低K介电体的低温工艺
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