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Saeed GHASEMI; Ali Reza FARHADIZADEH; Hamid GHOMI;
Laser and Plasma Research Institute Shahid Beheshti University Evin 1983963113 Tehran Iran;
大功率脉冲磁控溅射(HiPIMS); 氮化钛; 响应面法(RSM); 沉积速率; 方差分析;
机译:大功率脉冲磁控溅射沉积钛膜:脉冲持续时间的影响
机译:脉冲频率和偏压对大功率脉冲磁控溅射沉积TiB2涂层组织和力学性能的影响
机译:调制脉冲功率(MPP)发生器产生的稳态大功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)放电的沉积速率特性
机译:直流脉冲频率和脉冲关闭时间对脉冲直流反应磁控溅射沉积沉积氮化铬的结构和力学性能的影响
机译:调制脉冲功率磁控溅射沉积氮化钛和氮化铝钛涂层的摩擦学和结构性能
机译:低温下大功率脉冲磁控溅射在铀上沉积的TiN膜
机译:建立大功率脉冲噪声发生器的频率范围为3000至12400兆周的可行性
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