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新型压制钡钨阴极性能的研究

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摘要

研究了新型压制钡钨阴极的发射性能,并且分别用KYKY-2800扫描电子显微镜(SEM)和美国BIR公司ACTIS工业CT微焦点系统来分析所研制的新型压制钡钨阴极的表面形貌和内部结构,并对比了传统的钡钨阴极,来说明简化覆膜浸渍钡钨阴极生产工艺的可行性.

著录项

来源
《真空电子技术》 |2002年第3期|67-69|共3页
作者
张红卫; 白振纲; 俞世吉; 丁耀根;
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作者单位

中国科学院电子学研究所,北京,100080;

中国科学院电子学研究所,北京,100080;

中国科学院电子学研究所,北京,100080;

中国科学院电子学研究所,北京,100080;

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正文语种 chi
中图分类阴极电子学;
关键词
压制钡钨阴极; 工业CT; 扫描电子显微镜;

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