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首页> 美国卫生研究院文献>Sensors (Basel Switzerland) >Formation of Interstitial Hot-Spots Using the Reduced Gap-Size between Plasmonic Microbeads Pattern for Surface-Enhanced Raman Scattering Analysis
【2h】

Formation of Interstitial Hot-Spots Using the Reduced Gap-Size between Plasmonic Microbeads Pattern for Surface-Enhanced Raman Scattering Analysis

机译：利用表面等离子体拉曼散射分析的等离子等离子体微珠图案之间减小的间隙尺寸形成间隙热点

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To achieve an effective surface-enhanced Raman scattering (SERS) sensor with periodically distributed “hot spots” on wafer-scale substrates, we propose a hybrid approach combining physical nano-imprint lithography and a chemical deposition method to form a silver microbead array. Nano-imprint lithography (NIL) can lead to mass-production and high throughput, but is not appropriate for generating strong “hot-spots.” However, when we apply electrochemical deposition to an NIL substrate and the reaction time was increased to 45 s, periodical “hot-spots” between the microbeads were generated on the substrates. It contributed to increasing the enhancement factor (EF) and lowering the detection limit of the substrates to 4.40 × 106 and 1.0 × 10−11 M, respectively. In addition, this synthetic method exhibited good substrate-to-substrate reproducibility (RSD < 9.4%). Our research suggests a new opportunity for expanding the SERS application.
机译：为了实现有效的表面增强拉曼散射（SERS）传感器，该传感器在晶圆级衬底上具有周期性分布的“热点”，我们提出了一种将物理纳米压印光刻技术与化学沉积方法相结合的混合方法，以形成银微珠阵列。纳米压印光刻（NIL）可以导致大量生产和高产量，但不适用于生成强大的“热点”。但是，当我们在NIL基板上进行电化学沉积并且反应时间增加到45 s时，基板上会产生微珠之间的周期性“热点”。它有助于增加增强因子（EF）并将底物的检出限降低到4.40×10 6 和1.0×10 -11 M。此外，这种合成方法还具有良好的底物对底物重现性（RSD <9.4％）。我们的研究为扩展SERS应用提供了新的机会。

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