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【2h】

Fabrication and characterization of sub-100/10 nm planar nanofluidic channels by triple thermal oxidation and silicon-glass anodic bonding

机译：三重热氧化和硅玻璃阳极键合制备和表征亚100/10 nm平面纳米流体通道

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We reported the fabrication and characterization of nanofluidic channels by Triple Thermal Oxidation and Silicon-Glass Anodic Bonding. Planar nanochannels with depths from sub-100 nm down to sub-10 nm were realized by this method. A theoretical model was developed to precisely predict the depth of nanochannels. The depth and uniformity of nanochannels showed good stability during anodic bonding. This method is promising for various nanofluidic studies, such as nanofluidic electrokinetics, biomolecule manipulation, and energy conversion.
机译：我们报道了通过三重热氧化和硅-玻璃阳极键合制备和表征纳米流体通道。通过这种方法可以实现深度从100μm到10μm以下的平面纳米通道。建立了理论模型以精确预测纳米通道的深度。纳米通道的深度和均匀性在阳极键合过程中显示出良好的稳定性。该方法有望用于各种纳米流体研究，例如纳米流体电动学，生物分子操纵和能量转换。

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