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Size and shape control of a variety of metallic nanostructures using tilted rotating evaporation and lithographic lift-off techniques

机译：使用倾斜旋转蒸发和光刻剥离技术控制各种金属纳米结构的尺寸和形状

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Here, we demonstrate a simple top-down method for nanotechnology whereby electron beam (ebeam) lithography can be combined with tilted, rotated thermal evaporation to control the topography and size of an assortment of metallic objects at the nanometre scale. In order to do this, the evaporation tilt angle is varied between 1 and 24°. The technique allows the 3-dimensional tailoring of a range of metallic object shapes from sharp, flat bottomed spikes to hollow cylinders and rings—all of which have rotational symmetry and whose critical dimensions are much smaller than the lithographic feature size. The lithographic feature size is varied from 400 nm down to 40 nm. The nanostructures are characterized using electron microscopy techniques—the specific shape can be predicted using topographic modelling of the deposition. Although individual nanostructures are studied here, the idea can easily be extended to fabricate arrays for e.g. photonics and metamaterials. Being a generic technique—depending on easily controlled lithographic and evaporation parameters—it can be readily incorporated into any standard planar process and could be adapted to suit other thin-film materials deposited using physical means.
机译：在这里，我们演示了一种简单的自上而下的纳米技术，其中电子束（ebeam）光刻可以与倾斜的旋转热蒸发相结合，以控制纳米级金属物体的形貌和尺寸。为此，蒸发倾斜角在1至24°之间变化。该技术可对3种金属物体形状进行3D裁剪，从尖锐的，平底的尖刺到空心圆柱体和环-它们都具有旋转对称性，并且其临界尺寸远小于光刻特征尺寸。光刻特征尺寸从400 nm到40 nm不等。使用电子显微镜技术对纳米结构进行表征-可以使用沉积的形貌模型预测特定的形状。尽管这里研究了单个的纳米结构，但是该思想可以容易地扩展到制造阵列，例如。光子学和超材料。作为一种通用技术-取决于易于控制的光刻和蒸发参数-它可以很容易地并入任何标准平面工艺中，并且可以适用于使用物理方法沉积的其他薄膜材料。

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