Nanoscale Surface Patterning: Bottom Up Meets Top Down

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Nanoscale Surface Patterning: Bottom Up Meets Top Down

机译：纳米级表面构图：自下而上与自上而下

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Bottom-up self-assembly of block copolymers and top-down photolithography are valuable processes for the fabrication and manipulation of nanostructured surfaces in their own right. In a recent paper, Hawker and co-workers have demonstrated that the power of combining these techniques for the preparation of novel substrates with specific surface properties. A photolithographic mask is used to selectively irradiate, and subsequently cross-link, a random copoly-mer film.

机译：嵌段共聚物的自下而上的自组装和自上而下的光刻技术本身就是制造和操纵纳米结构表面的有价值的过程。在最近的一篇论文中，霍克及其同事证明了将这些技术结合起来用于制备具有特定表面特性的新型基材的强大能力。光刻掩模用于选择性地辐照并随后交联无规共聚膜。

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《Advanced Functional Materials》 |2008年第1期|p.A1|共1页
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原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类无线电电子学、电信技术;
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