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【24h】

Multilayer Microwires: Tailoring Magnetic Behavior by Sputtering and Electroplating

机译：多层微线：通过溅射和电镀调整磁行为

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摘要

A novel technique for preparing multilayer microwires with controlled magnetic behavior has been developed. This technique involves combining sputtering and electroplating procedures to deposit (magnetic or non-magnetic) metallic nano- and microlayers onto glass-coated amorphous magnetic microwires. A suitable choice of magnetostrictive amorphous metallic nucleus, together with the specific stresses induced by the deposited layers, allows the tailoring of specific magnetic behavior. In this way, the preparation of multilayer microwires characterized either by square-shaped hysteretic loops (typical of magnetically bistable microwires with longitudinal easy axes), or by nearly non-hysteretic loops (for those microwires with a circumferential magnetization easy axes), can be achieved.
机译：已经开发了制备具有受控磁行为的多层微丝的新技术。该技术涉及将溅射和电镀程序相结合，以将（磁性或非磁性）金属纳米层和微层沉积到玻璃涂层的非晶磁性微线上。磁致伸缩无定形金属核的适当选择，以及由沉积层引起的比应力，允许定制比磁行为。以这种方式，可以制备多层微丝，其特征是具有正方形的磁滞回线（典型的具有纵向易轴的磁性双稳态微线），或者具有几乎非磁滞的环（对于那些具有周向磁化易轴的微线）。实现。

著录项

  • 来源
    《Advanced Functional Materials》 |2004年第3期|p. 266-268|共3页
  • 作者

    Kleber Pirota; Manuel Hernandez-Velez; David Navas; Arcady Zhukov; Manuel Vazquez;

  • 作者单位

    Instituto de Ciencia de Materiales, CSIC, Dept. Fisica Aplicada, UAM, E-28049 Madrid, Spain;

    Instituto de Ciencia de Materiales, CSIC, Dept. Fisica Aplicada, UAM, E-28049 Madrid, Spain;

    Instituto de Ciencia de Materiales, CSIC, Dept. Fisica Aplicada, UAM, E-28049 Madrid, Spain;

    Instituto de Ciencia de Materiales, CSIC, Dept. Fisica Aplicada, UAM, E-28049 Madrid, Spain;

    Instituto de Ciencia de Materiales, CSIC, Dept. Fisica Aplicada, UAM, E-28049 Madrid, Spain;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 无线电电子学、电信技术;
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