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Molecular Glass Resists as High-Resolution Patterning Materials

机译：分子玻璃可作为高分辨率图案材料

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The success of the semiconductor industry is based on the ability to fabricate hundreds of millions of devices on a single chip. In order to fulfill the ever-shrinking feature sizes, the industry requires new patternable materials in order to operate in the sub-50 nm regime. Molecular glass (MG) resists are a new type of patterning material that has gained considerable attention over the past few years. This Research News article describes the chemical and structural aspects of MGs as well as important concepts of MG resist design. We also highlight some of the recent advances in high-resolution patterning capabilities with next-generation imaging tools.
机译：半导体行业的成功取决于能够在单个芯片上制造数亿个器件的能力。为了满足日益缩小的特征尺寸，该行业需要新的可图案化材料，以便在低于50 nm的制程中运行。分子玻璃（MG）抗蚀剂是一种新型的图案化材料，在过去的几年中受到了极大的关注。该研究新闻文章描述了MG的化学和结构方面以及MG抗蚀剂设计的重要概念。我们还将重点介绍下一代成像工具在高分辨率图案化功能方面的最新进展。

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