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Newest MHD-Valdis cell stability studies

机译：最新的MHD-Valdis细胞稳定性研究

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摘要

This year at the TMS 2014, the authors will show how the cathode surface geometry influences the metal pad current density and the cell stability. This study analyses cell stability using a MHD-Valdis code version which does not take into account the impact of the cathode surface geometry on the cathode surface current density. Also this year at the TMS, the second author will present a new version of the MHD-Valdis code that does take cathode surface geometry into account . The first cell stability study presented here is a repetition of the study presented in on the impact of transversal ridges on the cell stability using that new code version.
机译：今年在TMS 2014上，作者将展示阴极表面几何形状如何影响金属焊盘电流密度和电池稳定性。这项研究使用MHD-Valdis代码版本分析了电池稳定性，该版本未考虑阴极表面几何形状对阴极表面电流密度的影响。同样是在今年的TMS上，第二作者将展示确实考虑了阴极表面几何形状的MHD-Valdis代码的新版本。本文介绍的第一个细胞稳定性研究是对使用该新代码版本的横向脊对细胞稳定性的影响的研究的重复。

著录项

  • 来源
    《Aluminium》 |2014年第2期|42-44|共3页
  • 作者

    M. Dupuis; V. Bojarevics;

  • 作者单位

    University of Greenwich (UK);

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  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
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