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Calculation of secondary electron emission yields from low-energy electron deposition in tungsten surfaces

机译：通过低能电子在钨表面的沉积来计算二次电子发射量

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We present calculations of secondary electron emission (SEE) yields in tungsten as a function of primary electron energies between 100 eV and 1 keV and incidence angles between 0 and 90 degrees. We conduct a review of the established Monte Carlo methods to simulate multiple electron scattering in solids and select the best suited to study SEE in high-Z metals. We generate secondary electron yield and emission energy functions of the incident energy and angle and fit them to bivariate fitting functions using symbolic regression. We compare the numerical results with experimental data, with good agreement found. Our calculations are the first step towards studying SEE in nanoarchitected surfaces for electric propulsion chamber walls. (C) 2018 Elsevier B. V. All rights reserved.
机译：我们介绍了钨在二次电子发射（SEE）产量的计算方法，该函数是介于100 eV和1 keV之间的一次电子能量和0和90度之间的入射角的函数。我们对已建立的蒙特卡洛方法进行了综述，以模拟固体中的多个电子散射，并选择最适合研究高Z金属中的SEE。我们生成入射能量和角度的二次电子产率和发射能量函数，并使用符号回归将它们拟合为双变量拟合函数。我们将数值结果与实验数据进行比较，发现吻合良好。我们的计算是研究电动推进室壁纳米结构表面SEE的第一步。 （C）2018 Elsevier B.V.保留所有权利。

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