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【24h】

Electrodeposition of Al-Ta alloys in NaCl-KCl-AlCl3 molten salt containing TaCl5

机译：在含TaCl5的NaCl-KCl-AlCl3熔融盐中电沉积Al-Ta合金

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To form Al-Ta alloys for high temperature oxidation resistance components, molten salt electrolysis was carried out in an AlCl3-NaCl-KClmelt containing TaCl5 at 423 K. The voltammogram showed two cathodic waves at 0.45 V and 0.7 V vs. Al/Al(III), which may correspond to reduction from Ta(V) to Ta(III) and from Ta(III) to tantalum metal, respectively. Electrodeposits of Al and Ta were obtained in the range from 0.05 to 0.3 V and the highest concentration of Ta in the electrodeposit was 72 at% at 0.3 V. With increasing Ta content in the alloy, the morphology of the electrodeposits became powdery and the particle size smaller. (C) 2016 Elsevier B.V. All rights reserved.
机译：为了形成用于耐高温氧化成分的Al-Ta合金，在含TaCl5的AlCl3-NaCl-KRTIelt中于423 K进行熔融盐电解。伏安图显示0.45 V和0.7 V对Al / Al（ III），分别对应于从Ta（V）还原为Ta（III）和从Ta（III）还原为钽金属。在0.05至0.3 V的范围内获得了Al和Ta的电沉积物，并且在0.3 V时电沉积物中Ta的最高浓度为72 at％。随着合金中Ta含量的增加，电沉积物的形态变为粉状并且颗粒尺寸较小。 （C）2016 Elsevier B.V.保留所有权利。

著录项

  • 来源
    《Applied Surface Science》 |2016年第ptab期|794-798|共5页
  • 作者

    Sato Kazuki; Matsushima Hisayoshi; Ueda Mikito;

  • 作者单位

    Hokkaido Univ, Grad Sch Engn, Kita Ku, Kita 13,Nishi 8, Sapporo, Hokkaido 0608628, Japan;

    Hokkaido Univ, Grad Sch Engn, Kita Ku, Kita 13,Nishi 8, Sapporo, Hokkaido 0608628, Japan;

    Hokkaido Univ, Grad Sch Engn, Kita Ku, Kita 13,Nishi 8, Sapporo, Hokkaido 0608628, Japan;

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