机译:PLD生长的氧化膜中的缺氧
INSP, I/MR 7188 CNRS Universite Paris VI, 140 rue de Lourmel, 75015 Paris, France;
INSP, I/MR 7188 CNRS Universite Paris VI, 140 rue de Lourmel, 75015 Paris, France;
INSP, I/MR 7188 CNRS Universite Paris VI, 140 rue de Lourmel, 75015 Paris, France;
INSP, I/MR 7188 CNRS Universite Paris VI, 140 rue de Lourmel, 75015 Paris, France;
LIM, ENSAM-CNRS UMR 8006, 151 Bd de I'Hopital, 75013 Paris, France;
oxygen incorporation; pulsed laser deposition; nanocomposite films; transport properties;
机译:PLD生长的缺氧氧化镓膜的表征
机译:室温下生长的纳米复合铟锡氧化物薄膜的相分离:关于缺氧的作用
机译:氧气压对紫外线光电探测器的氧气压力对PLD生长和Cd共取代ZnO合金膜的影响
机译:氧分压对PLD生长InGaZnO薄膜特性的影响
机译:PLD钛酸锶锶薄膜的电学和光学表征。
机译:PLD种植IRO2薄膜旋转霍尔机制的强晶体影响
机译:PLD在蓝宝石上生长的掺-三氧化二砷薄膜