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【24h】

Structural characterization of Ni and Ni/Ti ohmic contact on n-type 4H-SiC

机译:n型4H-SiC上Ni和Ni / Ti欧姆接触的结构表征

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摘要

In this study, we report on the structural characterization of Ni layer and Ni/Ti bilayer contacts on n-type 4H-SiC. The resulting Ni-silicides and the redistribution of carbon, after annealing at 950 °C, in the Ni/SiC and the Ni/Ti/SiC contacts are particularly studied by Rutherford Backscattering Spectrometry (RBS) at Ea = 3.2 MeV, nuclear reaction analysis (NRA) at Ed = 1 MeV, scanning electron microscopy (SEM) and Energy Dispersive X-ray Spectrometry (EDS) techniques.
机译:在这项研究中,我们报告了n型4H-SiC上Ni层和Ni / Ti双层接触的结构特征。在950°C退火后,通过Rutherford背散射光谱法(RBS)在Ea = 3.2 MeV下进行了核反应分析,研究了所得的硅化镍和碳在Ni / SiC和Ni / Ti / SiC中的重新分布。 (NRA)在Ed = 1 MeV下,采用扫描电子显微镜(SEM)和能量色散X射线光谱(EDS)技术。

著录项

  • 来源
    《Applied Surface Science》 |2011年第24期|p.10737-10742|共6页
  • 作者单位

    Centre de Recherche Nucleate d'Alger. 02 Bd Frantz Fanon, Alger, Algeria;

    USTHB. Faculte de Phvsiaue. BP 32. El Alia. Bab Ezzouar. Aleer. Alzeria;

    Centre de Recherche Nucleate d'Alger. 02 Bd Frantz Fanon, Alger, Algeria;

    USTHB. Faculte de Phvsiaue. BP 32. El Alia. Bab Ezzouar. Aleer. Alzeria;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

    sic ohmic contact nickel titanium rbs nra sem/eds;

    机译:SiC欧姆接触镍钛rbs nra sem / eds;

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