机译:改性化学浴沉积法制备的聚(3-甲基噻吩)薄膜的表征
Vacuum Techniques & Thin Film Lab., USIC, Shivaji University, Kolhapur, India;
Department of Physics, Shivaji University, Kolhapur, 416004, India;
Department of Physics, Shivaji University, Kolhapur, 416004, India;
Vacuum Techniques & Thin Film Lab., USIC, Shivaji University, Kolhapur, India;
Vacuum Techniques & Thin Film Lab., USIC, Shivaji University, Kolhapur, India;
polymer; thin films; chemical synthesis; XPS; optical properties;
机译:化学浴沉积法制备的α-氧化铝薄膜的沉积与表征
机译:通过化学浴沉积制备的非晶硒薄膜:沉积工艺的优化和表征
机译:射频等离子体聚合制备聚(3-甲基噻吩)薄膜
机译:化学浴沉积法制备ZnO薄膜的光学表征
机译:化学浴沉积,图案化碲化镉薄膜的光学和结构表征的参数研究。
机译:沉积温度对化学制备纳米晶硒化铅薄膜的结构和光学性能的影响
机译:电化学沉积制备的染料改性ZnO杂化薄膜的光电化学表征