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X-ray and neutron studies of nanoscale atomic diffusion in thin films and multilayers

机译：薄膜和多层膜中纳米级原子扩散的X射线和中子研究

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In the present work we review some X-ray and neutron based techniques capable of measuring diffusion lengths in thin films with an accuracy of a fraction of a nanometer. The techniques have been used for studying both self-diffusion of the constituent species in a thin film, as well as interdiffusion at the interfaces in multilayers. The high accuracy of the techniques in depth profiling of an element or a specific isotope makes very low diffusivities ～10~(-23) m~2/s, amenable to measurements, and allows one to study the subtle effects of factors like internal stresses or structural relaxation on self-diffusion in compositionally homogeneous films. Depth selectivity of X-ray standing wave technique in multilayers makes it possible to distinguish between diffusion at the two types of the interfaces, namely A-on-B and B-on-A, in a single multilayer structure.
机译：在当前的工作中，我们回顾一些基于X射线和中子的技术，这些技术能够以几分之一纳米的精度测量薄膜中的扩散长度。该技术已用于研究薄膜中组成物种的自扩散以及多层界面的互扩散。该技术在元素或特定同位素深度剖析中的高精度使得扩散率非常低，仅为〜10〜（-23）m〜2 / s，可进行测量，并且使人们能够研究内部应力等因素的微妙影响或在成分均一的薄膜中自扩散引起的结构弛豫。多层X射线驻波技术的深度选择性使得可以在单个多层结构中区分两种类型的界面扩散，即A-on-B和B-on-A。

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