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Surface Characterization Of Tio_2 Thin Films Obtained By High-energy reactive Magnetron Sputtering

机译：高能反应磁控溅射获得的Tio_2薄膜的表面表征

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This paper presents the results of surface characterization of TiO_2 thin films deposited on different substrates by the use of high-energy reactive magnetron sputtering. Structural investigations carried out by X-ray diffraction (XRD) and atomic force microscopy (AFM) have shown a strong influence of both the substrate type, and its placement in the deposition chamber (relative to the sputtering target), on the structural properties of the films. In all cases, there is evidence for pseudoepitaxial growth. XRD examination showed existence of TiO_2-rutile phase with preferred (110) orientation and AFM measurements revealed nanocrystalline structure directly after deposition. X-ray photoelectron spectroscopy analysis showed that the TiO_2 films have stoichiometric composition.
机译：本文介绍了通过使用高能反应磁控溅射沉积在不同基底上的TiO_2薄膜的表面特性的结果。通过X射线衍射（XRD）和原子力显微镜（AFM）进行的结构研究表明，衬底类型及其在沉积室中的放置（相对于溅射靶）均对衬底的结构特性产生强烈影响。电影。在所有情况下，都有假外延生长的证据。 XRD检查表明存在具有优选的（110）取向的TiO 2-金红石相，并且AFM测量显示出沉积后直接具有纳米晶体结构。 X射线光电子能谱分析表明，TiO_2薄膜具有化学计量组成。

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