机译:封闭场不平衡磁控溅射离子镀镁合金表面CrTiAIN涂层的结构和摩擦学性能
College of Mechanical Engineering, Chongqing University, Chongqing 400044, PR China;
CrTiAIN coating; closed-field unbalanced magnetron sputtering ion plating; chemical state; morphology; microindentation; tribological property;
机译:基底偏置对封闭场不平衡磁控溅射离子镀法制备的纳米多层CrTiAIN多层涂层力学和摩擦学性能的影响
机译:镍对封闭磁场不平衡磁控溅射离子镀沉积Cr-Ni-N涂层结构和性能的影响
机译:封闭场不平衡磁控溅射离子镀制备TiN,TiC和Ti(C,N)薄膜的微观结构和摩擦学性能
机译:衬底偏置对通过闭合场不平衡磁控溅射离子电镀方法制备的纳米级多层Crtiain涂层机械和摩擦学性能的影响
机译:调制脉冲功率磁控溅射沉积氮化钛和氮化铝钛涂层的摩擦学和结构性能
机译:SiNx扩散阻挡层厚度对溶胶-凝胶浸涂和反应磁控溅射获得的TiO2薄膜的结构性能和光催化活性的影响
机译:使用封闭的场不平衡磁控溅射离子镀层沉积的合金氮化物涂层的表面自由能