机译:ε-锡_x(0.4
School of Physics, University of Hyderabad, Hyderabad 500046, India;
titanium nitride; rf magnetron sputtering; optical properties;
机译:脉冲激光沉积Bi_(0.5)Sr_(0.5)FeO_(3-δ)薄膜的表面电阻率,介电共振,极化和磁性
机译:多铁电BiFeO_3-(K_(0.5)Na_(0.5))_(0.4)(Sr_(0.6)Ba_(0.4))_(0.8)Nb_2O_6薄膜的光学,铁电和磁性
机译:反应直流磁控溅射制备TiN_x和Ti_(1-x)Al_xN薄膜的结构性能和电阻率:氮气流量的影响
机译:具有导电LA_(0.5)SR_(0.5)SR_(0.5)COO_3底电极的BA_(0.6)SR_(0.4)TiO_3薄膜的外延生长和电性能
机译:通过脉冲激光沉积和溶胶-凝胶法控制氧化锌薄膜的电阻率和光学性质。
机译:非真空沉积p型氧化镍薄膜的形貌光学和电学性质
机译:基于退火时间差的钛酸锶钡(Ba0.5Sr0.5TiO3)薄膜的铁电光电二极管的电学和光学特性表征及其在卫星技术上作为光传感器的发展