机译:非晶碳催化H_2侵蚀氧化的U-0.1 wt%Cr表面
Physics Department, Nuclear Research Centre-Negev, P.O. Box 9001, Beer-Sheva 84190, Israel;
catalysis; uranium; hydrides; oxide surfaces; nucleation and growth: microscopic aspects; hot stage microscopy (HSM); scanning electron microscopy (SEM);
机译:H_2 /(H_2 + Ar)流量比对使用Ar / H_2 / C_7H_8等离子体化学气相沉积生长的氢化非晶碳膜的影响
机译:氧化Zr_(60)Ce_5PD_(30)Pt_5非晶合金的微观结构和烟灰燃烧催化分析
机译:H_2在Ru(0001)和Ru(10-10)单晶表面上的电催化
机译:无定形Ni基合金种子层表面氧化对概念/卡迪媒体噪声的影响
机译:使用二氧化碳作为溶剂的新发展:单层和纳米复合材料。 1.有机硅烷与二氧化碳中氧化的硅表面的反应。 2.在二氧化碳中合成的聚合物/聚合物纳米复合材料。
机译:非晶碳诱导的表面缺陷修复以增强碳纤维的机械性能
机译:表面缺陷态在氧化氢化非晶Si氢化非晶Ge多层膜可见光中的作用
机译:铂单晶表面的烃催化:吸附碳沉积物和其他化学添加剂的作用