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【24h】

Two-step Nitridation Of Photocatalytic Tio_2 Films By Low Energy ion Irradiation

机译：低能离子辐照法对光催化Tio_2薄膜进行两步氮化

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Nitridation of TiO_2 films is performed by the simultaneous irradiation of low-energy N_2~+ and H_2~+ ions under substrate-heating condition. Spectroscopic observations of the resultant films clarify the formation of nitrogen-substituted TiO_2 (TiO_(2-x)N_x) with large N fractions and the agglomeration of undesirable oxynitride species attributed to the deep states in the band gap. We find that the addition of a thin TiO_2 cap layer on the ion-irradiated films improves the nitrogen bonding structure and distribution near the surfaces, leading to a good photocatalytic performance even in the visible region.
机译：通过在衬底加热条件下同时照射低能N_2〜+和H_2〜+离子来进行TiO_2薄膜的氮化。所得膜的光谱观察清楚地说明了具有大N分数的氮取代的TiO_2（TiO_（2-x）N_x）的形成以及由于带隙中的深态而引起的不希望的氧氮化物的团聚。我们发现，在离子辐照膜上添加一个薄的TiO_2盖层可以改善氮键的结构和表面附近的分布，即使在可见光区域也能带来良好的光催化性能。

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