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X-PEEM/NEXAFS and AFM of polypyrrole and copper micro-patterns on insulating fluoropolymer substrates

机译：绝缘含氟聚合物衬底上的聚吡咯和铜微图案的X-PEEM / NEXAFS和AFM

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Micro-patterns (80 mu m and 10 mu m) of copper and semi-conducting polypyrrole on insulating fluorinated ethylene propylene substrates were characterized using synchrotron-based X-ray Photoemission Electron Microscopy (X-PEEM), Near Edge X-ray Absorption Fine Structure (NEXAFS), and Atomic Force Microscopy (AFM). Electronic states in the polypyrrole are verified using the NEXAFS data, and sample degradation upon irradiation is addressed. X-PEEM images show homogeneous distributions of the corresponding elements in the patterns. They do not exhibit dichroic effects and give information about the growth of copper and polypyrrole (i.e. nucleation of Cu, overgrowth of PPy, formation of PPy granules). AFM results are used to verify the topography of the patterns and support the findings on pattern growth. (c) 2006 Elsevier B.V. All rights reserved.
机译：使用基于同步加速器的X射线光发射电子显微镜（X-PEEM），近边缘X射线吸收精细技术对绝缘氟化乙丙烯基板上的铜和半导体聚吡咯的微图案（80μm和10μm）进行了表征结构（NEXAFS）和原子力显微镜（AFM）。使用NEXAFS数据验证了聚吡咯中的电子态，并解决了照射后样品降解的问题。 X-PEEM图像显示出图案中相应元素的均匀分布。它们不表现出二色性，并提供有关铜和聚吡咯生长的信息（即Cu的成核，PPy的过度生长，PPy颗粒的形成）。 AFM结果用于验证图案的形貌并支持关于图案生长的发现。 （c）2006 Elsevier B.V.保留所有权利。

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