机译:在电子辐照下表征氧化薄膜的新技术
Laboratoire de Materiaux et Microelectronique de Provence (UMR/CNRS no. 6137), Case 222, Faculte des Sciences et Techniques de Saint-Jerome, 13397 Marseille Cedex 20, France;
trapping characterisation; MgO layers; ICM technique; electrostatic effect;
机译:喷射雾化器技术制备氧化镍薄膜及其特征
机译:在钒金属上生长的氧化钒薄膜:氧化条件以生产用于Li嵌入应用的V2O5膜,并通过XPS,AFM,RBS / NRA进行表征
机译:使用新型TEM技术表征孤立的聚酰胺薄膜
机译:溶胶 - 凝胶浸涂技术的二氧化锡薄膜的结构和光学特征
机译:自旋电子学中氧化铬薄膜沉积技术的比较
机译:Zn-二氧化硅纳米复合薄膜快速重离子辐照的结果研究:电子溅射
机译:薄膜电子产品:氧化物薄膜电子产品使用全MxENE电触点(ADV。Mater。15/2018)