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AFM study of the effect of direct negative Ni ion beam energy on the evolution of Ni nanoislands

机译：AFM研究直接负Ni离子束能量对Ni纳米岛演化的影响

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The influence of secondary negative Ni ion beam energy on the evolution of crystalline grains as a function of ion beam energy was investigated. Prior to deposition, we also characterized the property of direct Ni- ion beam source such as secondary Ni- ion yield, ion energy spread, and deposition rate and then by atomic force microscopy analyses we have characterized the morphology and roughness of the ion beam bombarded surface. Increasing the ion beam energy resulted in an increase, in the surface roughness which can be explained by the growth of separated cone shaped grains. However, beyond 75 eV roughness decreased by the reduction of grain size due to many nucleation sites. Thin film deposition rate also decreased as increasing ion beam energy. (C) 2003 Published by Elsevier B.V. [References: 16]
机译：研究了二次负Ni离子束能量对晶粒演化的影响，该变化是离子束能量的函数。在沉积之前，我们还表征了直接Ni离子束源的特性，例如次级Ni离子产率，离子能量扩散和沉积速率，然后通过原子力显微镜分析，我们表征了被轰击的离子束的形貌和粗糙度表面。离子束能量的增加导致表面粗糙度的增加，这可以通过分离的锥形晶粒的生长来解释。然而，由于许多成核位置，晶粒尺寸的减小使粗糙度超过了75 eV。薄膜沉积速率也随着离子束能量的增加而降低。 （C）2003年，Elsevier B.V.出版[参考文献：16]

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