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Simulation methods of ion sheath dynamics in plasma source ion implantation

机译：等离子体源离子注入中离子鞘动力学的模拟方法

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Progress of the theoretical studies on the ion sheath dynamics in plasma source ion implantation (PSII) is reviewed in this paper. Several models for simulating the ion sheath dynamics in PSII are provided. The main problem of nonuniform ion implantation on the target in PSII is discussed by analyzing some calculated results. In addition, based on the relative researches in our laboratory, some calculated results of the ion sheath dynamics in PSII for inner surface modification of a cylindrical bore are presented. Finally, new ideas and tendency for future researches on ion sheath dynamics in PSII are proposed.
机译：本文综述了等离子体源离子注入（PSII）中离子鞘动力学的理论研究进展。提供了几种用于模拟PSII中离子鞘动力学的模型。通过分析一些计算结果，讨论了PSII中靶材上离子注入不均匀的主要问题。此外，根据我们实验室的相关研究，给出了PSII中圆柱孔内表面改性的离子鞘动力学的一些计算结果。最后，提出了PSII离子鞘动力学研究的新思路和发展趋势。

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