Synchrotron radiation photoemission study on growth of gadolinium film ovee Ni(110)surface

Xu Faqiang; Zhu Junfa; Sun Yuming

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Synchrotron radiation photoemission study on growth of gadolinium film ovee Ni(110)surface

机译：同步辐射光发射研究of膜Ni（110）表面的生长

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The growth of Gd film on Ni(110)surface was studied by synchrotron radiation photoemis- sion spectroscopy and XPS techniques. It is revealed that in coverage range of 0-0.22 nm Gd4f core level showed a single-peak structure, therefore Gd film grows over Ni(110)in the layer-by-layer mode. However, when Gd coverage was larger than 0.22 nm the Gd4f peak turned gradually into dou- ble-peak and a double-peak structure with 2.3 eV separation was formed at 1.51 nm, meanwhile simi- lar phenomenon was observed in the Gd4d XPS spectra.

机译：利用同步加速器辐射光发射光谱法和XPS技术研究了Ni（110）表面Gd膜的生长。结果表明，在0-0.22 nm的覆盖范围内，Gd4f的核能级呈现单峰结构，因此Gd膜以逐层模式生长在Ni（110）上。但是，当Gd覆盖范围大于0.22 nm时，Gd4f峰逐渐变为双峰，并且在1.51 nm处形成具有2.3 eV间隔的双峰结构，同时在Gd4d XPS光谱中观察到类似现象。

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来源
《Chinese science bulletin》 |1999年第4期|p.328-331|共4页
作者
Xu Faqiang; Zhu Junfa; Sun Yuming;
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作者单位

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收录信息
原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类自然科学现状及发展;
关键词
Gd film; synchrotron radiation; Ni(110)surface;

机译：GD胶卷;同步辐射Ni（110）表面;

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Synchrotron radiation photoemission study on growth of gadolinium film ovee Ni(110)surface

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