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Correlation between structure and hardness of magnetron sputtering deposited CN_x films

机译：磁控溅射CN_x薄膜结构与硬度的关系

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Carbon nitride films are deposited on Si(001)substrates by reactive dc magnetron sputtering graphite in a pure N_2 discharge. The structure of carbon nitride films has been probed using Fourier transformation infrared, near edge X-ray absorption fine structure(NEXAFS)and high resolution electron microscopy(HREM), and the hardness has been evaluated in nanoin- dentation experiments. FTIR spectra show that N atoms are bound to sp~1, sp~2, and sp~3 hy- bridized C atoms.
机译：氮化碳膜通过反应性直流磁控溅射石墨在纯N_2放电中沉积在Si（001）衬底上。使用傅里叶变换红外光谱，近边缘X射线吸收精细结构（NEXAFS）和高分辨率电子显微镜（HREM）探测了氮化碳膜的结构，并在纳米压痕实验中评估了硬度。 FTIR光谱显示N个原子与sp〜1，sp〜2和sp〜3杂化的C原子键合。

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