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首页> 外文期刊>Micro and Nano Systems Letters >Microstructure-based analysis of fine metal mask cleaning in organic light emitting diode display manufacturing
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Microstructure-based analysis of fine metal mask cleaning in organic light emitting diode display manufacturing

机译：基于微观结构的有机发光二极管显示器制造中的精细金属掩模清洗分析

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This study proposes the unique method to analyze the cleanliness of the fine metal mask (FMM) used in OLED display manufacturing after FMM cleaning process. We developed a FMM-mimic microstructure as a substitute for the FMM, which can be used for the evaluation of cleaning efficiency. The FMM-mimic microstructure was fabricated using a combination of photolithography, reactive ion etching, anodic bonding and sand blasting processes. To demonstrate the proposed cleanliness analytical method, a 1.4?μm-thick Tris-(8-hydroxyquinoline) aluminum (Alq~(3)) film was deposited on the FMM-mimic microstructure as a contaminant by vacuum thermal evaporation. The Alq~(3)-deposited FMM-mimic microstructure was cleaned by N -methyl-2-pyrrolidone (NMP) with changing cleaning time. We analyzed the residual contaminants on the FMM-mimic microstructure using a fluorescence microscope. The developed FMM-mimic microstructure proves very convenient for inspecting the residual contaminant inside the gap through the transparent glass by general optical and fluorescence microscopy.
机译：这项研究提出了一种独特的方法来分析FMM清洁工艺之后用于OLED显示器制造的精细金属掩模（FMM）的清洁度。我们开发了一种模拟FMM的微观结构，作为FMM的替代品，可用于评估清洁效率。 FMM模拟微观结构是通过光刻，反应离子刻蚀，阳极键合和喷砂工艺组合而成的。为了证明所提出的清洁度分析方法，通过真空热蒸发将厚度为1.4μm的Tris-（8-羟基喹啉）铝（Alq〜（3））膜作为污染物沉积在FMM-模拟微观结构上。用N-甲基-2-吡咯烷酮（NMP）清洁Alq〜（3）沉积的FMM模拟微观结构，并改变清洁时间。我们使用荧光显微镜分析了FMM模拟微观结构上的残留污染物。事实证明，发达的FMM模拟微观结构非常便于通过普通光学和荧光显微镜检查通过透明玻璃的间隙内的残留污染物。

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