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【24h】

Facile synthesis of highly active fluorinated ultrathin graphitic carbon nitride for photocatalytic H2 evolution using a novel NaF etching strategy

机译：使用新型NaF蚀刻策略轻松合成高活性氟化超薄石墨氮化碳，用于光催化氢气的释放

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Although graphitic carbon nitride (GCN) has been intensively studied in photocatalytic research, its performance is still hindered by its inherently low photo-absorption and inefficient charge separation. Herein, we report a simple NaF solution treating method to produce fluorinated and alkaline metal intercalated ultrathin GCN with abundant in-plane pores and exposed active edges, and therefore an enhanced number of actives sites. Compared to bulk GCN, NaF treated GCN has a larger specific surface area of 81.2 m ~(2) g ~(?1) and a relatively narrow band gap of 2.60 eV, which enables a 6-fold higher photocatalytic rate of hydrogen evolution.
机译：尽管在光催化研究中已对石墨氮化碳（GCN）进行了深入研究，但其性能因其固有的低光吸收性和低电荷分离效率而受到阻碍。在这里，我们报告了一种简单的NaF溶液处理方法，以生产具有丰富的平面内孔和暴露的活性边缘，从而增加了活性位点数量的氟化和碱金属插层的超薄GCN。与块状GCN相比，经NaF处理的GCN具有81.2 m〜（2）g〜（？1）的较大比表面积和2.60 eV的相对较窄的带隙，这使得氢的光催化速率提高了6倍。

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