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【24h】

Novel Approaches for Intensifying Negative C 60 Ion Beams Using Conventional Ion Sources Installed on a Tandem Accelerator

机译：使用安装在串联加速器上的传统离子源强化负C 60离子束的新方法

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We developed novel methods for producing negative C60 ion beams at the accelerator facility Takasaki Ion Accelerators for Advanced Radiation Application (TIARA) to increase the current intensity of swift C60 ion beams accelerated to the MeV energy region using a tandem accelerator. We produced negative C60 ion beams with an intensity of 1.3 μA, which is several tens of thousands of times greater than the intensity of beams produced using conventional methods based on the Cs sputtering process. These beams were obtained by temporarily adding an ionization function based on electron attachment to an existing ion source that is widely used in tandem accelerators. The high-intensity swift C60 ion beams can be made available relatively easily to institutes that have tandem accelerators and ion sources of the type used at TIARA because there is no need to change existing ion sources or install new ones.
机译：我们开发了用于在加速器设施Takasaki离子促进剂处产生负C60离子束的新方法，用于高级辐射应用（Tiara），以增加使用串联加速器加速到MEV能量区域的SWIFT C60离子束的电流强度。 我们产生了强度为1.3μA强度的负C60离子束，这比使用基于CS溅射工艺使用常规方法产生的光束强度的几十倍。 通过临时基于电子连接到现有的离子源来获得这些光束，得到了串联加速器的应用。 高强度SWIFT C60离子束可以相对容易地提供，该机构具有串联加速器和在Tiara中使用的类型的离子源，因为不需要改变现有的离子源或安装新的离子源。

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