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半導体製造用ガス分解処理装置の開発

机译：开发用于半导体制造的气体分解设备

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摘要

半導体製造工程では多くのフロン系ガスが使用されている。代表的なガスは，①エッチング工程で使用されているPFC (パーフルオロカーボン)と②洗浄工程で使用されているNF_3 (三フッ化窒素)である。これらの温室効果は二酸化炭素の数千倍から数万倍と大きいことから.適正に分解して無害化することは，地球温暖化防止のためにも極めて重要である。
机译：在半导体制造过程中使用了许多碳氟化合物气体。典型的气体是（1）蚀刻过程中使用的PFC（全氟化碳）和（2）清洁过程中使用的NF_3（三氟化氮）。这些温室效应是二氧化碳的数千倍至数万倍，正确的分解和排毒对防止全球变暖极为重要。

著录项

  • 来源
    《電気評論》 |2013年第4期|52-56|共5页
  • 作者

    竹内　章浩;

  • 作者单位

    中部電力株式会社　エネルギー応用研究所;

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  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
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