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【24h】

A Precise Photolithography Process Control Method Using Virtual Metrology

机译：利用虚拟计量的精确光刻工艺控制方法

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Virtual metrology, which enables both precise controllability and economic efficiency for semiconductor manufacturing processes, has recently attracted interest. The current virtual metrology model is mainly based on hypothesis-verification methods that depend on engineers' skills and updating of the model in accordance with situation changes in tools and processes. We propose a precise photolithography process control method using virtual metrology. In our method, we extract the current virtual metrology model by data mining, thus making updation is unnecessary.
机译：虚拟计量技术能够实现半导体制造过程的精确可控性和经济效率，最近引起了人们的兴趣。当前的虚拟计量模型主要基于假设验证方法，该方法取决于工程师的技能，并根据工具和过程的情况变化对模型进行更新。我们提出了一种使用虚拟计量的精密光刻工艺控制方法。在我们的方法中，我们通过数据挖掘来提取当前的虚拟度量模型，因此无需进行更新。

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