...
  • 主题
高级搜索  >
历史搜索 清空历史
首页> 外文期刊>Elektronika >BADANIE WŁAŚCIWOŚCI CIENKICH WARSTW TLENKÓW CYNKU OTRZYMYWANYCH METODĄ REAKTYWNEGO IMPULSOWEGO ROZPYLANIA MAGNETRONOWEGO
【24h】

BADANIE WŁAŚCIWOŚCI CIENKICH WARSTW TLENKÓW CYNKU OTRZYMYWANYCH METODĄ REAKTYWNEGO IMPULSOWEGO ROZPYLANIA MAGNETRONOWEGO

机译：活性脉冲磁控喷涂法测定锌氧化物薄层的性能

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           
页面导航
  • 摘要
  • 著录项
  • 相似文献
  • 相关主题

摘要

W pracy przedstawiono wyniki badań technologii otrzymywania warstw ZnO_x metodą impulsowego reaktywnego rozpylania magnetronowego. Badano charakterystyki elektryczne procesów reaktywnych podczas rozpylania targetu Zn w obecności mieszaniny argon + tlen, identyfikując mod rozpylania magnetronowego. Określono warunki technologiczne, przy których osadzone warstwy miały właściwości zbliżone do właściwości stechiometrycznego tlenku cynku. Morfologia przekroju powierzchni wytworzonych warstw wskazała na budowę matrycy/osnowy dielektrycznej z wtrąceniami metalicznymi przy małym poziomie mocy krążącej, gdy strukturę włóknistą/ /kolumnową miały warstwy otrzymane przy dużych wartościach mocy krążącej. Współczynnik załamania światła wytworzonych warstw był w zakresie 1,97 ÷ 1,98. Badania przedstawione w pracy pokazały, że parametry procesu osadzania miału duży wpływ na wartość współczynnika ekstynkcji światła.%This paper provides the results of research investigation of pulsed reactive magnetron sputtering method for preparation of ZnO_x thin films. For identification the magnetron sputtering mode, the electrical characteristics of the reactive processes during sputtering of Zn target in the mixed argon + oxygen atmosphere were investigated. Technological conditions at which deposited films had properties similar to stoichiometric zinc oxide were determined. The morphology of films cross-section indicate that the structure of dielectric matrix/wrap with metallic inclusions was obtained at a low level of circulating power, while coatings obtained at high circulating power values had fibrous/column structure. The refractive index of the prepared films was in the range of 1.97 to 1.98. Research presented in this work showed that the parameters of sputtering had an effect on the value of the extinction coefficient.
机译：本文介绍了利用脉冲反应磁控溅射法获得ZnO_x层的技术的研究成果。研究了在氩气+氧气混合物存在下锌靶雾化过程中反应过程的电学特征，从而确定了磁控溅射模式。确定所沉积的层具有与化学计量的氧化锌相似的性质的技术条件。当纤维//柱状结构具有以高循环功率值获得的层时，产生的层的表面横截面的形态表明在低循环功率水平下电介质基质/具有金属夹杂物的基质的构造。产生的层的折射率在1.97÷1.98的范围内。本文的研究表明沉积工艺参数对消光系数的值影响较大，为脉冲反应磁控溅射法制备ZnO_x薄膜提供了研究成果。为了识别磁控管溅射模式，研究了在氩气+氧气混合气氛中溅射锌靶时反应过程的电学特性。确定沉积膜具有类似于化学计量的氧化锌的性能的技术条件。薄膜横截面的形态表明，具有低金属含量的电介质基质/包裹体的结构是在较低的循环功率下获得的，而在较高的循环功率值下获得的涂层则具有纤维/柱状结构。所制备的膜的折射率在1.97至1.98的范围内。这项工作提出的研究表明，溅射参数对消光系数的值有影响。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

  • 客服微信

  • 服务号