...
机译:基于HF和Ti氧化物的微观结构相关的薄层抗静性分析
Politechnika Wrocławska Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki Wrocław;
Politechnika Wrocławska Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki Wrocław;
Politechnika Wrocławska Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki Wrocław;
Politechnika Wrocławska Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki Wrocław;
Politechnika Wrocławska Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki Wrocław;
mieszaniny tlenków HfO_2-TiO_2; rozpylanie magnetronowe; właściwości elektryczne; właściwości antystatyczne; właściwości mikrostrukturalne;
机译:基于HF和TiO的防静电薄膜的微观结构分析。
机译:基于Ti和HF氧化物的薄层电气和光学性能的影响
机译:低钛Hf和Ti氧化物混合物的抗静电性能分析
机译:基于Al和Ti使用爆炸能量的多层覆层仪的微观结构和力学性能