...
首页> 外文期刊>Elektronika >Analiza profilowa układów warstwowych metodą spektrometrii mas wyładowania jarzeniowego
【24h】

Analiza profilowa układów warstwowych metodą spektrometrii mas wyładowania jarzeniowego

机译:辉光放电质谱分析分层系统的轮廓

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

Przedstawiono wyniki prac badawczych dotyczących zastosowania nowo opracowanego spektrometrycznego analizatora wyładowania jarzeniowego (typ SMWJ-01) do analizy profilowej układów warstwowych. Jako układy testowe badano cienkie warstwy azotków tytanu i chromu nanoszone metodą plazmową na powierzchnię stali. W trakcie analizy powierzchnia badanych próbek ulega trawieniu jonowemu w obszarze wyładowania jarzeniowego. Rozpylone składniki atomowe ulegają jonizacji i są analizowane przez układ kwadrupolowego filtru mas. Rejestrowane prądy jonów odzwierciedlają skład atomowy rozpylanych warstw. Zastosowana metoda umożliwia analizę warstw (szybkość trawienia ok. 0,8 μm/min). Czas analizy jest krótki - wynosi ok. 15 min wraz z zamocowaniem badanej próbki w analizatorze. Do wytworzenia wyładowania jarzeniowego stosowano stałe napięcie 1350 V oraz ciśnienie argonu ok. 1 hPa. Analizator GDMS typ SMWJ-01 może być stosowany do charakteryzacji cienkich warstw, a wyniki mogą być zastosowane w technologii nanoszenia warstw oraz kontroli ich jakości.
机译:介绍了使用新开发的光谱辉光放电分析仪(SMWJ-01型)进行分层系统轮廓分析的研究结果。通过等离子体方法在钢表面沉积的钛和氮化铬氮化物薄层作为测试系统进行了测试。在分析过程中,被测样品的表面在辉光放电区域经历了离子消解。雾化的雾化组件通过四极质量过滤器系统进行离子化和分析。记录的离子电流反映了雾化层的原子组成。使用的方法可以进行层分析(酸洗速度约为0.8μm/ min)。分析时间很短-将样品放在分析仪中大约需要15分钟。使用1350 V的恒定电压和大约1 hPa的氩气压力来产生辉光放电。 GDMS分析仪SMWJ-01型可用于表征薄层,其结果可用于层应用技术和质量控制中。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号