薄膜蒸着（CVD，PVD）の市場動向

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薄膜蒸着（CVD，PVD）の市場動向

机译：薄膜沉积（CVD，PVD）的市场趋势

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薄膜を形成する蒸着法は，CVD（Chemical Vapor rnDeposition：化学気相成長，化学気相蒸着またはrn化学蒸着）とPVD（Physical Vapor Deposition：rn物理気相成長法）に大別することができる。rn（1）CVDrnCVDは，気体原料から化学反応を経て，薄膜rnや微粒子などの固体材料を合成するプロセスであrnる。ICや太陽電池の基板の製造工程の一つであrnり，化学反応を利用して，基板上に単結晶半導体rnや絶縁膜を成長させる薄膜を形成する。

机译：用于形成薄膜的气相沉积方法可大致分为CVD（化学气相沉积：化学气相沉积，化学气相沉积或化学气相沉积）和PVD（物理气相沉积：物理气相沉积）。 rn（1）CVD rnCVD是通过来自气源的化学反应合成诸如薄膜rn和微粒之类的固体材料的过程。这是用于IC和太阳能电池的基板的制造工艺之一，并且化学反应用于在基板上形成用于生长单晶半导体rn或绝缘膜的薄膜。

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《機能材料》 |2009年第5期|76-80|共5页
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