Mismatch in diffusion resistors caused by photolithography

著录项

• 来源
  《IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing》 |2003年第2期|p.181-186|共6页
• 作者

  Hausser S.; Majoni S.; Schligtenhorst H.; Kolwe G.;

  展开▼
• 作者单位

  Philips Semicond. GmbH, Boeblingen, Germany;

  展开▼
• 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);
• 原文格式 PDF
• 正文语种 eng
• 中图分类 无线电电子学、电信技术;
• 关键词

  CMOS integrated circuits; resistors; diffusion; photolithography; systematic mismatch; diffusion resistor; photolithography; CMOS process; wafer spinning; resist development; 0.35 micron;

  机译：CMOS集成电路;电阻器扩散;光刻;系统失配;扩散电阻光刻;CMOS工艺;晶圆旋转;抵制发展;0.35微米;